一種位相延遲裝置及其制備方法、顯示設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> 2020115738362 申請日 -
公開（公告）號 CN112285977A 公開（公告）日 2021-01-29
申請公布號 CN112285977A 申請公布日 2021-01-29
分類號 G02F1/13363(2006.01)I; 分類 光學(xué);
發(fā)明人 趙文卿 申請（專利權(quán)）人 北京瑞波科技術(shù)有限公司
代理機構(gòu) 北京國昊天誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 朱文杰
地址 100176北京市大興區(qū)經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)地盛北路5號4幢5層5032室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本說明書實施例公開了一種位相延遲裝置及其制備方法、顯示設(shè)備，所述位相延遲裝置包括：第一偏振層、第一位相延遲層、第二位相延遲層和第二偏振層；所述第一偏振層位于光源的一側(cè)，用于將接收到的光線轉(zhuǎn)換為線性偏振光；所述第一位相延遲層位于所述第一偏振層遠(yuǎn)離所述光源的一側(cè)，用于將所述線性偏振光轉(zhuǎn)換為橢圓偏振光；所述第二位相延遲層位于所述第一位相延遲層中遠(yuǎn)離所述第一偏振層的一側(cè)，用于將所述橢圓偏振光轉(zhuǎn)換為線性偏振光；所述第二偏振層位于所述第二位相延遲層中遠(yuǎn)離第一位相延遲層的一側(cè)，用于吸收所述線性偏振光；所述第一位相延遲層和所述第二位相延遲層的雙折射率不隨著可見光波長的增加而減少。??