一種薄膜及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010841365.2 申請日 -
公開（公告）號 CN114076997A 公開（公告）日 2022-02-22
申請公布號 CN114076997A 申請公布日 2022-02-22
分類號 G02B1/115（2015.01）I 分類 光學;
發(fā)明人 莊明宇;鮑亞盟;藍芝江;魏子喬;雅樂摩·莫拉;李碩;范濱 申請（專利權(quán)）人 光馳科技（上海）有限公司
代理機構(gòu) 上海申蒙商標專利代理有限公司 代理人 周宇凡
地址 200444上海市寶山區(qū)寶山城市工業(yè)園區(qū)城銀路267號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及薄膜制備技術(shù)領域，尤其是一種薄膜及其制備方法，其特征在于：薄膜包括由不同折射率的材料層依次堆疊在所述基板上構(gòu)成的多層膜，在所述多層膜遠離基板一側(cè)設置的漸變結(jié)構(gòu)層；所述漸變結(jié)構(gòu)層中的折射率在沿朝向多層膜表面的方向上是增加的，所述漸變結(jié)構(gòu)層包含鋁元素和氧元素。本發(fā)明的優(yōu)點是：薄膜的增透或者減反射的光譜范圍大，大角度入射時光譜變形小，光譜角度效應佳；薄膜制備快速，薄膜結(jié)構(gòu)均勻，薄膜品質(zhì)劣化風險小，制備工藝對基板的損害小，特別適合工業(yè)化量產(chǎn)應用等。