一種真空鍍膜設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202122398539.5 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN215887205U 公開(kāi)（公告）日 2022-02-22
申請(qǐng)公布號(hào) CN215887205U 申請(qǐng)公布日 2022-02-22
分類號(hào) C23C14/24（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 張波;唐政;余海春;戴秀海;龍汝磊;任海峰 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 光馳科技（上海）有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京品源專利代理有限公司 代理人 廖微
地址 200436上海市寶山區(qū)寶山城市工業(yè)園區(qū)城銀路267，297號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種真空鍍膜設(shè)備，屬于真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域。所述真空鍍膜設(shè)備包括蒸發(fā)腔體和調(diào)節(jié)板組件，蒸發(fā)腔體具有腔室和線形開(kāi)口，腔室用于容置蒸發(fā)源材料，腔室通過(guò)線形開(kāi)口與外部連通；調(diào)節(jié)板組件能夠遮擋線形開(kāi)口形成線形蒸發(fā)口，調(diào)節(jié)調(diào)節(jié)板組件能夠調(diào)節(jié)線形蒸發(fā)口的橫截面積大小。本實(shí)用新型的真空鍍膜設(shè)備，提高了蒸發(fā)源材料蒸發(fā)均勻性，減少了蒸發(fā)源材料用量，降低了鍍膜生產(chǎn)成本。