基于全加成法的電化鍍銅方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110709231.X | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113463143A | 公開(公告)日 | 2021-10-01 |
申請公布號 | CN113463143A | 申請公布日 | 2021-10-01 |
分類號 | C25D3/38;C25D5/00;C25D21/12;C23C18/40;H05K3/18 | 分類 | 電解或電泳工藝;其所用設備〔4〕; |
發(fā)明人 | 劉繼承;王玲玲;鄒乾坤 | 申請(專利權)人 | 廣東駿亞電子科技股份有限公司 |
代理機構 | 惠州市超越知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) | 代理人 | 陳文福 |
地址 | 516000 廣東省惠州市惠城區(qū)(三棟)數(shù)碼工業(yè)園25號區(qū) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明屬于PCB技術領域,提供一種基于全加成法的電化鍍銅方法,其特征在于,包括以下步驟:鉆孔?除膠渣?干膜?電化鍍銅?蝕刻;所述電化鍍銅工序具體包括:S1.采用催化還原體系,調整電化鍍銅反應體系,通過沉銅的方式在基材或孔表面形成一層均勻且致密的銅層;S2.在既有鍍液體系里面,以銅為可溶性陽極、鈦為陰極,通過電鍍實現(xiàn)銅層加厚。本發(fā)明可以提高鍍銅速率,保證鍍銅結合力與銅層延展性,以新的接枝聚合催化體系控制氧化還原反應副產(chǎn)物Cu2O的產(chǎn)生,降低歧化反應的產(chǎn)生幾率,控制電化鍍銅體系在無電流鍍層反應速率與穩(wěn)定性。 |
