一種晶圓固定裝置及晶圓清潔系統(tǒng)
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202021526559.5 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN212750845U | 公開(公告)日 | 2021-03-19 |
申請公布號 | CN212750845U | 申請公布日 | 2021-03-19 |
分類號 | H01L21/683(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 楊小龍;白雪山 | 申請(專利權(quán))人 | 寧波芯健半導(dǎo)體有限公司 |
代理機構(gòu) | 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | 郝傳鑫;賈允 |
地址 | 315336浙江省寧波市杭州灣新區(qū)庵東工業(yè)園區(qū)華興地塊中橫路18號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型公開了一種晶圓固定裝置及晶圓清潔系統(tǒng),包括底座、旋轉(zhuǎn)臺和真空發(fā)生裝置;所述旋轉(zhuǎn)臺可轉(zhuǎn)動的設(shè)置在所述底座上;所述旋轉(zhuǎn)臺上設(shè)有多個連通的導(dǎo)氣槽和凸臺;所述導(dǎo)氣槽與所述真空發(fā)生裝置連通,晶圓設(shè)置在所述凸臺上,所述真空發(fā)生裝置通過在所述導(dǎo)氣槽中產(chǎn)生吸附氣流,將所述晶圓固定在所述凸臺上,通過真空吸附方式將晶圓吸附在旋轉(zhuǎn)臺上,避免了人工的接觸,從而避免晶圓發(fā)生裂片和表面被沾污,同時也能處理晶圓背面的水分,并進行收集處理,保證了晶圓避免水分干燥的全面性,通過旋轉(zhuǎn)臺的設(shè)置,可以提高晶圓表面的清潔率,減少了人工的操作,避免了對晶圓的接觸,提高了晶圓的良率。?? |
