具有靜電去除裝置的半導(dǎo)體制作工藝設(shè)備
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201910747813.X | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN112397412A | 公開（公告）日 | 2021-02-23 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN112397412A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-02-23 |
| 分類號(hào) | H01L21/67(2006.01)I;H05F3/02(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 馬志超;林國(guó)豪;談文毅 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 聯(lián)芯集成電路制造（廈門）有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京市柳沈律師事務(wù)所 | 代理人 | 陳小雯 |
| 地址 | 361000福建省廈門市翔安區(qū)萬家春路八九九號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開一種具有靜電去除裝置的半導(dǎo)體制作工藝設(shè)備，其中該半導(dǎo)體制作工藝設(shè)備包括一液體處理制作工藝單元以及一空氣氣流系統(tǒng)。該液體處理制作工藝單元包括一承載臺(tái)用于托持一晶片、一旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)與該承載臺(tái)連接、一液體分配器用于將一液體分配至設(shè)置在該承載臺(tái)上的晶片的表面上。該空氣氣流系統(tǒng)用于在該液體處理制作工藝單元中產(chǎn)生一空氣氣流直接吹拂設(shè)置在該承載臺(tái)上的該晶片的該表面。一離子產(chǎn)生器，整合在該空氣氣流系統(tǒng)中，用于提供離子至該空氣氣流中。?? |
