具有靜電去除裝置的半導體制作工藝設備
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN201910747813.X | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN112397412A | 公開（公告）日 | 2021-02-23 |
| 申請公布號 | CN112397412A | 申請公布日 | 2021-02-23 |
| 分類號 | H01L21/67(2006.01)I;H05F3/02(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 馬志超;林國豪;談文毅 | 申請（專利權）人 | 聯芯集成電路制造（廈門）有限公司 |
| 代理機構 | 北京市柳沈律師事務所 | 代理人 | 陳小雯 |
| 地址 | 361000福建省廈門市翔安區(qū)萬家春路八九九號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開一種具有靜電去除裝置的半導體制作工藝設備，其中該半導體制作工藝設備包括一液體處理制作工藝單元以及一空氣氣流系統(tǒng)。該液體處理制作工藝單元包括一承載臺用于托持一晶片、一旋轉機構與該承載臺連接、一液體分配器用于將一液體分配至設置在該承載臺上的晶片的表面上。該空氣氣流系統(tǒng)用于在該液體處理制作工藝單元中產生一空氣氣流直接吹拂設置在該承載臺上的該晶片的該表面。一離子產生器，整合在該空氣氣流系統(tǒng)中，用于提供離子至該空氣氣流中。?? |
