一種等離子體源以及鍍膜機(jī)
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201710054054.X | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN106847661A | 公開(kāi)（公告）日 | 2017-06-13 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN106847661A | 申請(qǐng)公布日 | 2017-06-13 |
| 分類(lèi)號(hào) | H01J37/08(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I | 分類(lèi) | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 張誠(chéng);陳亮 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 河北興遠(yuǎn)有色金屬材料有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京漢昊知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 北京丹華科技發(fā)展有限公司;三河市衡岳真空設(shè)備有限公司 |
| 地址 | 100080 北京市海淀區(qū)知春路51號(hào)慎昌大廈5層5409室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明提供了一種等離子體源，該等離子體源包括：殼體；等離子體生成室，設(shè)置在殼體內(nèi)，用于提供等離子體的生成區(qū)域；氣體供給裝置，與等離子體生成室連接，用于向等離子體生成室中供給工藝氣體；電極，設(shè)置在等離子體生成室外靠近等離子體生成室的位置，用于電離工藝氣體以生成等離子體；第一磁體和第二磁體，用于在等離子體生成室內(nèi)生成磁場(chǎng)，第一磁體和第二磁體分別設(shè)置在等離子體生成室外靠近其側(cè)壁和底面；柵網(wǎng)結(jié)構(gòu)，設(shè)置在等離子體生成室的開(kāi)口處，用于拉出離子以及對(duì)離子加速；射頻電源，與電極連接，用于向電極提供射頻電。本發(fā)明還提供了一種鍍膜機(jī)。實(shí)施本發(fā)明可以有效提高等離子體的離化效率以及對(duì)離子能量進(jìn)行控制。 |
