新型高靶材利用率平面磁控濺射陰極

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201710299682.4 申請日 -
公開（公告）號 CN107083537B 公開（公告）日 2019-10-01
申請公布號 CN107083537B 申請公布日 2019-10-01
分類號 C23C14/35 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 張誠 申請（專利權(quán)）人 河北興遠(yuǎn)有色金屬材料有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京漢昊知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 馮譜
地址 065201 河北省廊坊市三河市燕郊高新區(qū)河北興遠(yuǎn)有色金屬材料有限公司用地南側(cè)、區(qū)間路東側(cè)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種新型的平面磁控濺射陰極，該平面磁控濺射陰極包括靶材、背板、磁體裝置以及導(dǎo)磁板，靶材設(shè)置在背板的一側(cè)，導(dǎo)磁板設(shè)置在背板的另一側(cè)，磁體裝置設(shè)置在背板和導(dǎo)磁板之間，其中，磁體裝置包括中間磁體和環(huán)繞該中間磁體的外圈磁體，中間磁體包括至少兩個電磁鐵，外圈磁體和中間磁體朝向靶材的磁極其二者極性相反；平面磁控濺射陰極還包括電磁鐵電源，該電磁鐵電源與該至少兩個電磁鐵連接，為該至少兩個電磁鐵依次供電以使外圈磁體和中間磁體之間的磁場分布不斷發(fā)生變化。實(shí)施本發(fā)明可以有效提高靶材的利用率、防止靶材污染、提高濺射速率的穩(wěn)定性。此外，本發(fā)明所提供的平面磁控濺射陰極還具有結(jié)構(gòu)簡單、易于控制、可靠性高的特點(diǎn)。