一種金屬件的真空鍍膜方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201410299957.0 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN104060224B | 公開(公告)日 | 2016-09-14 |
申請公布號 | CN104060224B | 申請公布日 | 2016-09-14 |
分類號 | C23C14/16(2006.01)I;C23C14/30(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I;C23C14/58(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 章繼波 | 申請(專利權(quán))人 | 北海市城市建設(shè)投資發(fā)展有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 廣州市越秀區(qū)哲力專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 湯喜友 |
地址 | 518000 廣東省深圳市寶安區(qū)石巖街道石龍社區(qū)石龍居委民營路惠科工業(yè)園四棟 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種金屬件的真空鍍膜方法,將金屬件放置于真空室內(nèi),采用真空鍍膜方法在金屬件表面上沉積一層金屬薄膜。所述金屬件為鋁材料,所述金屬靶材為鋁材料;鍍膜工藝參數(shù)如下:真空度為3×10?3Pa?5×10?3Pa,金屬件預(yù)熱溫度為70?150℃,施加于金屬靶材上的負(fù)電壓為200?1000V,沉積時間為50?120分鐘,金屬薄膜的厚度為50μm?80μm;采用本發(fā)明所述方法處理后的金屬薄膜均勻并且附著力好,增強(qiáng)了產(chǎn)品表面鍍層的耐磨性及耐腐蝕性。 |
