高溫液體加熱裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202021719579.4 申請日 -
公開（公告）號 CN213454225U 公開（公告）日 2021-06-15
申請公布號 CN213454225U 申請公布日 2021-06-15
分類號 F24H1/20（2006.01）I;F24H9/18（2006.01）I;F24H9/20（2006.01）I 分類 供熱；爐灶；通風(fēng);
發(fā)明人 張富信;張金良;黃超;黃忠源;朱立江;劉猛;張杰;馬煜真;司佑智 申請（專利權(quán)）人 北京中冶設(shè)備研究設(shè)計總院有限公司
代理機構(gòu) 北京鴻元知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 袁文婷;張娓娓
地址 100029北京市朝陽區(qū)安外勝古中路9821信箱北京中冶設(shè)備院
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型提供一種高溫液體加熱裝置，包括熔池、浸沒式燃燒系統(tǒng)和輔助燃燒系統(tǒng)；熔池包括熔池主體和設(shè)置在熔池主體頂部的熔池蓋；浸沒式燃燒系統(tǒng)包括設(shè)置在熔池主體底部側(cè)壁上的浸沒式燒嘴；浸沒式燒嘴包括設(shè)置在熔池主體內(nèi)部的第一燒嘴端和設(shè)置在熔池主體側(cè)壁外部的第一燃料入口端；輔助燃燒系統(tǒng)包括設(shè)置在熔池蓋上的輔助燒嘴；輔助燒嘴包括設(shè)置在熔池主體內(nèi)部的第二燒嘴端和設(shè)置在熔池主體外部的第二燃料入口端。利用本實用新型，能夠解決現(xiàn)有技術(shù)中的常規(guī)加熱方式對于加熱導(dǎo)熱性差的高溫液體熔池存在加熱效率低、整個熔池溫度不均勻等問題。