液態(tài)相對(duì)真空噴吹式冶煉金屬的裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202021728836.0 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN213447254U 公開(kāi)（公告）日 2021-06-15
申請(qǐng)公布號(hào) CN213447254U 申請(qǐng)公布日 2021-06-15
分類號(hào) C22B5/02（2006.01）I;C22B9/04（2006.01）I;C22B26/22（2006.01）I 分類 冶金；黑色或有色金屬合金；合金或有色金屬的處理;
發(fā)明人 黃忠源;李鳳善;劉猛;梁文玉;徐子涵;司佑智 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 北京中冶設(shè)備研究設(shè)計(jì)總院有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京鴻元知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 張娓娓;袁文婷
地址 100029北京市朝陽(yáng)區(qū)安外勝古中路9821信箱北京中冶設(shè)備院
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型提供一種液態(tài)相對(duì)真空噴吹式冶煉金屬的裝置，包括真空給料系統(tǒng)、真空還原系統(tǒng)、出渣系統(tǒng)以及收集凈化系統(tǒng)，其中，真空給料系統(tǒng)用于向真空還原系統(tǒng)加入爐料；真空還原系統(tǒng)用于對(duì)爐料進(jìn)行真空還原處理；其中噴槍插入真空罐內(nèi)的液態(tài)還原劑中，以氬氣為載體向液態(tài)還原劑中噴入被還原粉劑，并且使得被還原粉與液態(tài)還原劑發(fā)生還原反應(yīng)生成金屬蒸汽，并且金屬蒸汽隨所述氬氣泡逸出還原劑液面；出渣系統(tǒng)用于處理真空還原系統(tǒng)處理后的爐渣；收集凈化系統(tǒng)用于凈化收集在真空還原系統(tǒng)生成的金屬蒸汽以及非目標(biāo)金屬蒸汽。利用本實(shí)用新型，能夠解決現(xiàn)有的皮江法成本高、要求真空度較高等問(wèn)題。