一種用于半導(dǎo)體光刻膠的清洗方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202111391021.7 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN113970880A | 公開(kāi)（公告）日 | 2022-01-25 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN113970880A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-01-25 |
| 分類(lèi)號(hào) | G03F7/42（2006.01）I | 分類(lèi) | 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類(lèi)似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 薛弘宇;顧仁寶;李偉東;朱文健;余簫偉;魏韶華;陸子陽(yáng) | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 江蘇凱威特斯半導(dǎo)體科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 無(wú)錫蘇元專(zhuān)利代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 王清偉 |
| 地址 | 214000江蘇省無(wú)錫市錫山經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)團(tuán)結(jié)路31號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種用于半導(dǎo)體光刻膠的清洗方法，第一步：拆卸機(jī)臺(tái)涂膠部件，在光刻膠周邊區(qū)域鋪上防滲漏高分子材料；第二步：將光刻膠剝離液倒入防滲漏材料圈起范圍內(nèi)以浸潤(rùn)光刻膠，軟化表面；第三步：將表面軟化的光刻膠去除；第四步：繼續(xù)軟化膠體；第五步：再次將軟化的下層光刻膠去除；第六步：使用十六烷基二甲基芐基銨溶液將最底層的光刻膠浸泡擦除；第七步：使用超純水去除殘留化學(xué)品；第八步：使用高純氮?dú)獯祾哒麄€(gè)熱板部件。本發(fā)明主要解決熱板上的殘留光刻膠的清洗，可將涂膠部件從設(shè)備機(jī)臺(tái)拆卸下來(lái)，針對(duì)涂膠部件上熱板區(qū)域局部的光刻膠采取化學(xué)品浸泡。而無(wú)需將氧化鋁陶瓷熱板完全從涂膠部件拆卸，增加熱板部件安裝錯(cuò)誤的風(fēng)險(xiǎn)。 |
