一種用于半導(dǎo)體生產(chǎn)的晶舟的強(qiáng)氧化劑清洗液及清洗方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110911702.5 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN113637536A 公開（公告）日 2021-11-12
申請(qǐng)公布號(hào) CN113637536A 申請(qǐng)公布日 2021-11-12
分類號(hào) C11D7/08（2006.01）I;C11D7/10（2006.01）I;H01L21/02（2006.01）I 分類 動(dòng)物或植物油、脂、脂肪物質(zhì)或蠟；由此制取的脂肪酸；洗滌劑；蠟燭;
發(fā)明人 薛弘宇;顧仁寶;朱文鍵;李偉東;余簫偉 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 江蘇凱威特斯半導(dǎo)體科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 無(wú)錫蘇元專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 張洪偉
地址 214000江蘇省無(wú)錫市錫山經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)團(tuán)結(jié)路31號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種用于半導(dǎo)體生產(chǎn)的晶舟的強(qiáng)氧化劑清洗液，所述強(qiáng)氧化劑清洗液為氫氟酸和強(qiáng)氧化劑的混合溶液，所述的強(qiáng)氧化劑為重鉻酸鉀、高錳酸鉀、高氯酸鉀、高鐵酸鈉中的至少一種；氫氟酸濃度為2?20wt％，強(qiáng)氧化劑的濃度為1?10wt％。本發(fā)明使用氫氟酸和強(qiáng)氧化劑的混合溶液來處理半導(dǎo)體晶舟的清洗，同時(shí)使用氮?dú)夤呐?，可以完全去除污染，保證產(chǎn)品潔凈。經(jīng)過本發(fā)明的方法清洗的晶舟，成本低，清洗效率高；可以有效去除晶舟表面彩虹印跡以及頑固的光刻膠等有機(jī)污染物和無(wú)機(jī)顆粒物質(zhì)。同時(shí)可以最大程度的保證晶舟的表面潔凈、無(wú)腐蝕印跡，確保產(chǎn)品滿足使用標(biāo)準(zhǔn)。