靶材濺射裝置
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202021429934.4 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN212955323U | 公開(公告)日 | 2021-04-13 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN212955323U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-04-13 |
分類號(hào) | C23C14/35(2006.01)I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 溫艷玲;焦曉希;張學(xué)智 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 河北冠靶科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京化育知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 尹均利 |
地址 | 050000河北省石家莊市興業(yè)街與火炬路交叉口西北角 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型公開了靶材濺射裝置,包括底座,所述底座的上端中部固定連接有兩個(gè)支撐板,兩個(gè)所述支撐板的右端下部均開有移動(dòng)口,兩個(gè)所述支撐板的相對(duì)面上部共同固定連接有限位桿,右側(cè)所述支撐板的右端上部穿插活動(dòng)連接有移動(dòng)裝置,所述底座的上端中部開有滑槽,所述滑槽內(nèi)滑動(dòng)連接有放置裝置,所述底座的上端左部和上端右部均固定連接有擋板,右側(cè)所述擋板的右端下部穿插固定連接有推動(dòng)裝置。本實(shí)用新型所述的靶材濺射裝置,通過設(shè)置放置裝置和推動(dòng)裝置,便于兩個(gè)靶材交替進(jìn)行鍍膜,縮短了更換靶材的時(shí)間,提高了生產(chǎn)效率,通過設(shè)置移動(dòng)裝置,提高了對(duì)靶材轟擊的均勻性,延長了靶材的使用壽命。?? |
