一種多真空室的電阻式蒸發(fā)鍍膜機及其操作方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201610834874.6 申請日 -
公開（公告）號 CN106191787B 公開（公告）日 2019-04-05
申請公布號 CN106191787B 申請公布日 2019-04-05
分類號 C23C14/26（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 胡偉; 徐平 申請（專利權(quán)）人 深圳市力灃實業(yè)有限公司
代理機構(gòu) 深圳市恒申知識產(chǎn)權(quán)事務(wù)所（普通合伙） 代理人 深圳市力灃實業(yè)有限公司;重慶兩江新區(qū)夏美西科技合伙企業(yè)（有限合伙）;重慶鑫景特種玻璃有限公司
地址 518000 廣東省深圳市龍華新區(qū)大浪華盛路45號寶華誠工業(yè)園4棟2樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明適用于鍍膜機領(lǐng)域，提供了一種多真空室的電阻式蒸發(fā)鍍膜機，包括裝取片室、鍍膜室和蒸發(fā)室，所述裝取片室與所述蒸發(fā)室均與所述鍍膜室連通，且所述裝取片室與所述鍍膜室之間設(shè)有控制其連通與閉合的第一閥門，所述蒸發(fā)室與所述鍍膜室之間設(shè)有控制其連通與閉合的第二閥門，所述裝取片室與所述鍍膜室之間還設(shè)有用于帶動工件進(jìn)出所述鍍膜室的傳動裝置，所述蒸發(fā)室內(nèi)具有鍍料組件和用于加熱所述鍍料組件的電阻片，所述鍍料組件緊貼在所述電阻片上。該鍍膜機包括裝取片室、鍍膜室和蒸發(fā)室，使其鍍膜室一直處于真空狀態(tài)，無需因裝取片而破真空導(dǎo)致吸附水汽等雜質(zhì)，鍍膜狀態(tài)時沒有水汽等雜質(zhì)的干擾，氣體氣氛相對穩(wěn)定，從而提高了鍍膜品質(zhì)和穩(wěn)定性。