覆晶芯片取裸片的制備方法及失效分析方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201810319803.1 | 申請日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN108493123B | 公開(公告)日 | 2021-05-25 |
申請公布號(hào) | CN108493123B | 申請公布日 | 2021-05-25 |
分類號(hào) | H01L21/66(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 潘健成;陳清隴 | 申請(專利權(quán))人 | 蘇試宜特(上海)檢測技術(shù)股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上海唯源專利代理有限公司 | 代理人 | 曾耀先 |
地址 | 201100 上海市徐匯區(qū)宜山路1618號(hào)8幢C101室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種覆晶芯片取裸片的制備方法及失效分析方法,其中,本發(fā)明覆晶芯片取裸片的制備方法包括:提供覆晶芯片,覆晶芯片包括裸片及封裝于裸片的外部的封裝結(jié)構(gòu),裸片的正面具有錫球;研磨封裝結(jié)構(gòu),直至裸露出裸片正面的錫球;采用淋酸蝕刻的方式蝕刻裸片的正面,去除裸片正面的錫球、殘留的封裝結(jié)構(gòu),達(dá)到裸片正面完全開封以得到裸片樣品。本發(fā)明覆晶芯片取裸片的制備方法不需要用酸煮沸去除封裝結(jié)構(gòu),而是研磨掉封裝結(jié)構(gòu)的一部分,再使用淋酸蝕刻的方式去除錫球和裸片正面的封裝結(jié)構(gòu),從而獲得裸片,不會(huì)造成崩邊或裂痕,使用此裸片進(jìn)行其他實(shí)驗(yàn)時(shí),可排除人為因素對裸片的影響,提高了實(shí)驗(yàn)準(zhǔn)確性,具有優(yōu)異的技術(shù)效果。?? |
