X線圖像的散射修正方法、裝置、電子設(shè)備、存儲(chǔ)介質(zhì)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110637485.5 申請日 -
公開（公告）號 CN113409414A 公開（公告）日 2021-09-17
申請公布號 CN113409414A 申請公布日 2021-09-17
分類號 G06T11/00（2006.01）I 分類 計(jì)算；推算；計(jì)數(shù);
發(fā)明人 唐寅 申請（專利權(quán)）人 江蘇一影醫(yī)療設(shè)備有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海弼興律師事務(wù)所 代理人 楊東明;林嵩
地址 226133江蘇省南通市海門區(qū)臨江鎮(zhèn)臨江大道188號B2樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了X線圖像的散射修正方法、裝置、電子設(shè)備、存儲(chǔ)介質(zhì)。該方法包括：獲取采用目標(biāo)曝光參數(shù)對掃描對象進(jìn)行X線束掃描得到的投影圖像數(shù)據(jù)；根據(jù)曝光參數(shù)與散射核函數(shù)的映射關(guān)系，確定對應(yīng)于所述目標(biāo)曝光參數(shù)的目標(biāo)散射核函數(shù)；根據(jù)所述目標(biāo)散射核函數(shù)計(jì)算所述投影圖像數(shù)據(jù)包含的散射分布數(shù)據(jù)；根據(jù)所述散射分布數(shù)據(jù)對所述投影圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行修正，得到對應(yīng)于所述投影圖像數(shù)據(jù)的修正圖像數(shù)據(jù)。從而能夠減小因散射核函數(shù)不適合曝光參數(shù)導(dǎo)致的散射分布計(jì)算誤差，提高散射校正的精確度以及有效性。