X線圖像的散射修正方法、裝置、電子設備、存儲介質
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110637485.5 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113409414A | 公開(公告)日 | 2021-09-17 |
申請公布號 | CN113409414A | 申請公布日 | 2021-09-17 |
分類號 | G06T11/00(2006.01)I | 分類 | 計算;推算;計數(shù); |
發(fā)明人 | 唐寅 | 申請(專利權)人 | 江蘇一影醫(yī)療設備有限公司 |
代理機構 | 上海弼興律師事務所 | 代理人 | 楊東明;林嵩 |
地址 | 226133江蘇省南通市海門區(qū)臨江鎮(zhèn)臨江大道188號B2樓 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了X線圖像的散射修正方法、裝置、電子設備、存儲介質。該方法包括:獲取采用目標曝光參數(shù)對掃描對象進行X線束掃描得到的投影圖像數(shù)據(jù);根據(jù)曝光參數(shù)與散射核函數(shù)的映射關系,確定對應于所述目標曝光參數(shù)的目標散射核函數(shù);根據(jù)所述目標散射核函數(shù)計算所述投影圖像數(shù)據(jù)包含的散射分布數(shù)據(jù);根據(jù)所述散射分布數(shù)據(jù)對所述投影圖像數(shù)據(jù)進行修正,得到對應于所述投影圖像數(shù)據(jù)的修正圖像數(shù)據(jù)。從而能夠減小因散射核函數(shù)不適合曝光參數(shù)導致的散射分布計算誤差,提高散射校正的精確度以及有效性。 |
