一種等離子耦合燃?xì)馊紵c(diǎn)火裝置
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN201920941715.5 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN211290142U | 公開（公告）日 | 2020-08-18 |
| 申請公布號 | CN211290142U | 申請公布日 | 2020-08-18 |
| 分類號 | F23Q3/00(2006.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 崔華;楊豫森;譚智;陳輝 | 申請（專利權(quán)）人 | 赫普科技發(fā)展（北京）有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京市中聯(lián)創(chuàng)和知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 赫普科技發(fā)展（北京）有限公司 |
| 地址 | 100176北京市大興區(qū)北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)科創(chuàng)十三街18號院12號樓 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種等離子耦合燃?xì)馊紵c(diǎn)火裝置，包括陽極、陰極、第一線圈、引弧裝置、助燃?xì)怏w室，所述陽極與陰極鄰接設(shè)置，所述陰極的外表面套設(shè)有所述助燃?xì)怏w室，所述第一線圈部分的套設(shè)在所述助燃器氣體室上，所述述助燃?xì)怏w室上設(shè)有燃?xì)膺M(jìn)口以提供燃?xì)?，通過引弧裝置產(chǎn)生的等離子體與燃?xì)饣旌虾髧姵鲆渣c(diǎn)火。本實(shí)用新型所述的等離子耦合燃?xì)馊紵c(diǎn)火裝置通過引入燃?xì)夂笫沟入x子體中富含燃?xì)?，從而使燃煤鍋爐在低煤粉濃度和低送風(fēng)溫度下即可燃燒，提高了煤粉的燃盡率和火焰溫度，具有高燃燒溫度和高燃燒效率的優(yōu)點(diǎn)。?? |
