一種標(biāo)準(zhǔn)單元庫的優(yōu)化方法及系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201610173678.9 申請日 -
公開（公告）號 CN105868449B 公開（公告）日 2019-03-15
申請公布號 CN105868449B 申請公布日 2019-03-15
分類號 G06F17/50（2006.01）I 分類 計算；推算；計數(shù);
發(fā)明人 韋亞一; 趙利俊; 粟雅娟 申請（專利權(quán)）人 北京中科微投資管理有限責(zé)任公司
代理機構(gòu) 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 王寶筠
地址 100029 北京市朝陽區(qū)北土城西路3號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種標(biāo)準(zhǔn)單元庫的優(yōu)化方法，在進行電路級別的光學(xué)仿真之前，先進行標(biāo)準(zhǔn)單元的版圖布局，進而進行單一標(biāo)準(zhǔn)單元版圖的光學(xué)仿真，這樣，可以對標(biāo)準(zhǔn)單元先進行光學(xué)仿真的優(yōu)化，減少了后續(xù)優(yōu)化和流片的次數(shù)，大大提高了設(shè)計效率，降低優(yōu)化難度，進而提高了設(shè)計的可靠性，尤其適用于新工藝節(jié)點下的標(biāo)準(zhǔn)單元庫的設(shè)計和優(yōu)化。