一種CuNi-Al-Mo蝕刻液

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202111000708.3 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN113774382A 公開（公告）日 2021-12-10
申請(qǐng)公布號(hào) CN113774382A 申請(qǐng)公布日 2021-12-10
分類號(hào) C23F1/18（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 王雪剛;凌麗靖;羅志華 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 漳州思美科新材料有限公司
代理機(jī)構(gòu) 廈門市精誠(chéng)新創(chuàng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 李寧
地址 363118福建省漳州市高新區(qū)九湖鎮(zhèn)眾創(chuàng)園2棟4樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開一種CuNi?Al?Mo蝕刻液，包含：硝酸、硫酸、有機(jī)酸、硝酸鹽化合物和助劑；其中，按重量百分比計(jì)，硝酸的含量為2wt％，硫酸的含量為12wt％，有機(jī)酸的含量為25wt％?40wt％，硝酸鹽化合物的含量為1.8wt％?3.2wt％，助劑的含量為0.05wt％?0.3wt％，其余為水。本發(fā)明可有效降低CuNi金屬層的蝕刻速率及側(cè)向蝕刻造成的CD Loss，能同時(shí)滿足最上層的CuNi金屬層圖案不被過蝕刻。