一種氣流旋轉(zhuǎn)均勻的氣相沉積裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202011528145.0 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN112695301A 公開（公告）日 2021-04-23
申請(qǐng)公布號(hào) CN112695301A 申請(qǐng)公布日 2021-04-23
分類號(hào) C23C16/455 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 周岳兵;胡祥龍;戴煜;王艷艷 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 湖南頂立科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 劉奕
地址 410118 湖南省長(zhǎng)沙市長(zhǎng)沙經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)星沙產(chǎn)業(yè)基地藍(lán)田北路以東、涼塘東路以北、雙塘路以西湖南頂立科技有限公司內(nèi)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種氣流旋轉(zhuǎn)均勻的氣相沉積裝置，包括用于進(jìn)行氣相沉積的反應(yīng)釜以及與反應(yīng)釜連通的進(jìn)氣通道和排氣通道；反應(yīng)釜內(nèi)設(shè)有沉積室，沉積室的空腔是與反應(yīng)釜同軸的圓柱體，沉積室與反應(yīng)釜的壁之間依次設(shè)有發(fā)熱體和爐膽保溫層，沉積室內(nèi)設(shè)有料盤，料盤通過料盤支撐柱連接在沉積室的底部；排氣通道設(shè)在沉積室的頂部；料盤上均勻設(shè)有通氣孔；進(jìn)氣通道包括奇數(shù)管道，每路管道包括進(jìn)氣口和進(jìn)氣管，進(jìn)氣口設(shè)置在反應(yīng)釜的底部，進(jìn)氣口圍繞著反應(yīng)釜底面圓心呈對(duì)稱分布，進(jìn)氣管在水平方向上與反應(yīng)釜水平橫截面呈10?20°，進(jìn)氣管在豎直方向上呈40?50°。用本發(fā)明的氣相沉積裝置制得的產(chǎn)品外觀性狀好，成品率高。