一種氣相沉積裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202011528221.8 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN112760616A | 公開（公告）日 | 2021-05-07 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN112760616A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-05-07 |
| 分類號(hào) | C23C16/52(2006.01)I;C23C16/458(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 胡祥龍;周岳兵;戴煜;許鵬;王艷艷 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 湖南頂立科技股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 劉奕 |
| 地址 | 410118湖南省長沙市長沙經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)星沙產(chǎn)業(yè)基地藍(lán)田北路以東、涼塘東路以北、雙塘路以西湖南頂立科技有限公司內(nèi) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申請(qǐng)公開一種氣相沉積裝置，包括，殼體、料盤、傳動(dòng)軸組件以及驅(qū)動(dòng)裝置，其中，所述料盤設(shè)置在所述殼體的內(nèi)腔，所述料盤用于承載工件；傳動(dòng)軸組件設(shè)置在所述料盤下方，與所述料盤連接；驅(qū)動(dòng)裝置設(shè)置在所述殼體外部，與所述傳動(dòng)軸組件遠(yuǎn)離所述料盤的一端連接，所述驅(qū)動(dòng)裝置被配置為：帶動(dòng)所述傳動(dòng)軸組件轉(zhuǎn)動(dòng)的同時(shí)使得所述傳動(dòng)軸組件沿軸向方向移動(dòng)。本申請(qǐng)?zhí)峁┑臍庀喑练e裝置，相較于現(xiàn)有技術(shù)而言，可以提高工件表面沉積厚度的均勻性，提高工件表面質(zhì)量。?? |
