一種氣相沉積裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202011528221.8 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN112760616A | 公開(公告)日 | 2021-05-07 |
申請公布號 | CN112760616A | 申請公布日 | 2021-05-07 |
分類號 | C23C16/52(2006.01)I;C23C16/458(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I | 分類 | - |
發(fā)明人 | 胡祥龍;周岳兵;戴煜;許鵬;王艷艷 | 申請(專利權(quán))人 | 湖南頂立科技股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 劉奕 |
地址 | 410118湖南省長沙市長沙經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)星沙產(chǎn)業(yè)基地藍(lán)田北路以東、涼塘東路以北、雙塘路以西湖南頂立科技有限公司內(nèi) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本申請公開一種氣相沉積裝置,包括,殼體、料盤、傳動軸組件以及驅(qū)動裝置,其中,所述料盤設(shè)置在所述殼體的內(nèi)腔,所述料盤用于承載工件;傳動軸組件設(shè)置在所述料盤下方,與所述料盤連接;驅(qū)動裝置設(shè)置在所述殼體外部,與所述傳動軸組件遠(yuǎn)離所述料盤的一端連接,所述驅(qū)動裝置被配置為:帶動所述傳動軸組件轉(zhuǎn)動的同時(shí)使得所述傳動軸組件沿軸向方向移動。本申請?zhí)峁┑臍庀喑练e裝置,相較于現(xiàn)有技術(shù)而言,可以提高工件表面沉積厚度的均勻性,提高工件表面質(zhì)量。?? |
