一種沉積裝置及制備熱解炭的方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201811466903.3 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN109371379B 公開(kāi)（公告）日 2021-05-11
申請(qǐng)公布號(hào) CN109371379B 申請(qǐng)公布日 2021-05-11
分類(lèi)號(hào) C23C16/26;C23C16/458 分類(lèi) 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 戴煜;呂攀;李志國(guó);胡祥龍 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 湖南頂立科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 羅滿
地址 410005 湖南省長(zhǎng)沙市長(zhǎng)沙經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)星沙產(chǎn)業(yè)基地開(kāi)元東路1318號(hào)綜合樓606室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種沉積裝置，包括轉(zhuǎn)動(dòng)軸、進(jìn)氣通道、筒體、位于所述筒體內(nèi)的沉積基板，所述筒體上設(shè)有蓋板，所述蓋板上開(kāi)設(shè)有通孔，所述沉積基板與所述蓋板相對(duì)設(shè)置，所述沉積基板與所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸固定連接，所述筒體與所述進(jìn)氣通道連通。本發(fā)明所提供的沉積裝置，通過(guò)轉(zhuǎn)動(dòng)軸帶動(dòng)沉積基板旋轉(zhuǎn)，能夠保證沉積氣體及沉積膜厚度分布均勻，實(shí)現(xiàn)沉積氣體在沉積基板上方均勻分布并沉積，延長(zhǎng)沉積時(shí)間，可以得到大厚度且密度均勻的熱解炭，同時(shí)本發(fā)明的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，降低了生產(chǎn)成本。