一種沉積裝置及制備熱解炭的方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201811466903.3 申請日 -
公開（公告）號 CN109371379B 公開（公告）日 2021-05-11
申請公布號 CN109371379B 申請公布日 2021-05-11
分類號 C23C16/26;C23C16/458 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 戴煜;呂攀;李志國;胡祥龍 申請（專利權(quán)）人 湖南頂立科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 羅滿
地址 410005 湖南省長沙市長沙經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)星沙產(chǎn)業(yè)基地開元東路1318號綜合樓606室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種沉積裝置，包括轉(zhuǎn)動軸、進(jìn)氣通道、筒體、位于所述筒體內(nèi)的沉積基板，所述筒體上設(shè)有蓋板，所述蓋板上開設(shè)有通孔，所述沉積基板與所述蓋板相對設(shè)置，所述沉積基板與所述轉(zhuǎn)動軸固定連接，所述筒體與所述進(jìn)氣通道連通。本發(fā)明所提供的沉積裝置，通過轉(zhuǎn)動軸帶動沉積基板旋轉(zhuǎn)，能夠保證沉積氣體及沉積膜厚度分布均勻，實(shí)現(xiàn)沉積氣體在沉積基板上方均勻分布并沉積，延長沉積時間，可以得到大厚度且密度均勻的熱解炭，同時本發(fā)明的結(jié)構(gòu)簡單，降低了生產(chǎn)成本。