一種光掩模保護(hù)罩、具有保護(hù)結(jié)構(gòu)的光掩模及其制備方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202210090140.7 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN114114824B | 公開（公告）日 | 2022-05-20 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN114114824B | 申請(qǐng)公布日 | 2022-05-20 |
| 分類號(hào) | G03F1/22（2012.01）I | 分類 | 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 季明華;任新平;黃早紅;董于虎 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 上海傳芯半導(dǎo)體有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 上海光華專利事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | - |
| 地址 | 200120上海市浦東新區(qū)中國(guó)（上海）自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)臨港新片區(qū)江山路2699弄1號(hào)樓5樓南側(cè) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明提供一種光掩模保護(hù)罩、具有保護(hù)結(jié)構(gòu)的光掩模及其制備方法。該光掩模包括：第一透光基板；圖形掩膜層，包括兩個(gè)以上的凸起狀圖形，凸起狀圖形形成于第一透光基板的正面；第二透光基板；用于容置所述圖形掩膜層的凹陷狀圖層，包括兩個(gè)以上的可容置一個(gè)或多個(gè)凸起狀圖形的凹槽，凹陷狀圖層形成于第二透光基板的正面；當(dāng)?shù)谝煌腹饣宓恼媾c第二透光基板的正面對(duì)應(yīng)疊合設(shè)置時(shí)，二者可形成密封腔，將圖形掩膜層與凹陷狀圖層封閉于所述密封腔中。本發(fā)明可以有效控制光掩模霧化的問(wèn)題，可以使得圖形掩膜層始終保持潔凈，并使圖形掩膜層始終與外部環(huán)境隔離，從而可以控制霧化問(wèn)題，且不需要定期清潔，大大節(jié)省了設(shè)備成本和工藝成本。 |
