一種光掩模保護罩、具有保護結(jié)構(gòu)的光掩模及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202210090140.7 申請日 -
公開（公告）號 CN114114824B 公開（公告）日 2022-05-20
申請公布號 CN114114824B 申請公布日 2022-05-20
分類號 G03F1/22（2012.01）I 分類 攝影術；電影術；利用了光波以外其他波的類似技術；電記錄術；全息攝影術〔4〕;
發(fā)明人 季明華;任新平;黃早紅;董于虎 申請（專利權(quán)）人 上海傳芯半導體有限公司
代理機構(gòu) 上海光華專利事務所（普通合伙） 代理人 -
地址 200120上海市浦東新區(qū)中國（上海）自由貿(mào)易試驗區(qū)臨港新片區(qū)江山路2699弄1號樓5樓南側(cè)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種光掩模保護罩、具有保護結(jié)構(gòu)的光掩模及其制備方法。該光掩模包括：第一透光基板；圖形掩膜層，包括兩個以上的凸起狀圖形，凸起狀圖形形成于第一透光基板的正面；第二透光基板；用于容置所述圖形掩膜層的凹陷狀圖層，包括兩個以上的可容置一個或多個凸起狀圖形的凹槽，凹陷狀圖層形成于第二透光基板的正面；當?shù)谝煌腹饣宓恼媾c第二透光基板的正面對應疊合設置時，二者可形成密封腔，將圖形掩膜層與凹陷狀圖層封閉于所述密封腔中。本發(fā)明可以有效控制光掩模霧化的問題，可以使得圖形掩膜層始終保持潔凈，并使圖形掩膜層始終與外部環(huán)境隔離，從而可以控制霧化問題，且不需要定期清潔，大大節(jié)省了設備成本和工藝成本。