晶圓與掩模版的對(duì)準(zhǔn)方法及納米結(jié)構(gòu)的套刻方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202210534344.5 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN114740695A 公開（公告）日 2022-07-12
申請(qǐng)公布號(hào) CN114740695A 申請(qǐng)公布日 2022-07-12
分類號(hào) G03F9/00（2006.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 林岳明;季明華 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 安徽艾可藍(lán)環(huán)保股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 蘇州謹(jǐn)和知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 -
地址 201306上海市浦東新區(qū)臨港新片區(qū)江山路2699弄1號(hào)樓5樓南側(cè)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請(qǐng)涉及一種晶圓與掩模版的對(duì)準(zhǔn)方法及納米結(jié)構(gòu)的套刻方法，該對(duì)準(zhǔn)方法包括：S1、將掩模版移動(dòng)至晶圓上且掩模版和晶圓位于基于近場(chǎng)掃描光學(xué)顯微鏡原理的成像裝置的掃描區(qū)域內(nèi)，且用以與本步驟中的移動(dòng)至晶圓上的掩模版對(duì)準(zhǔn)的參考基準(zhǔn)標(biāo)記暴露；S2、利用掃描裝置對(duì)掃描區(qū)域進(jìn)行掃描，獲取參考基準(zhǔn)標(biāo)記的第一位置數(shù)據(jù)和對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的第二位置數(shù)據(jù)；S3、對(duì)于每個(gè)第一位置數(shù)據(jù)，確定第一位置數(shù)據(jù)與第二位置數(shù)據(jù)之間的最小相對(duì)距離；S4、移動(dòng)掩模版以使最小相對(duì)距離落于預(yù)設(shè)距離范圍。該晶圓與掩模版的對(duì)準(zhǔn)方法及納米結(jié)構(gòu)套刻方法能夠?qū)崿F(xiàn)納米尺度下光學(xué)成像，從而實(shí)現(xiàn)高精度套刻對(duì)準(zhǔn)。