一種掩?；娴闹苽浞椒?/p>

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110535823.4 申請日 -
公開（公告）號 CN113325663A 公開（公告）日 2021-08-31
申請公布號 CN113325663A 申請公布日 2021-08-31
分類號 G03F1/60（2012.01）I;G03F1/68（2012.01）I;C23C14/00（2006.01）I;C23C14/06（2006.01）I;C23C14/08（2006.01）I;C23C14/58（2006.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 車翰宣;張雄哲 申請（專利權(quán)）人 上海傳芯半導(dǎo)體有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 201306上海市浦東新區(qū)層林路688號1號樓5樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種掩模基版的制備方法，該方法包括：提供透明基板；在透明基板上沉積遮光膜；在遮光膜上沉積防反射膜；采用硫酸和/或雙氧水對防反射膜進(jìn)行氧化處理，形成防反射膜氧化膜；在防反射膜氧化膜上涂覆光刻膠，形成光刻膠層；光刻膠為化學(xué)放大型光刻膠。