掩模基版的制作方法及具有等離子體加熱裝置的涂膠設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110620806.0 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN113311660A 公開(kāi)（公告）日 2021-08-27
申請(qǐng)公布號(hào) CN113311660A 申請(qǐng)公布日 2021-08-27
分類(lèi)號(hào) G03F1/60;G03F1/80;G03F1/68;C23C14/00;C23C14/06;C23C14/35;C23C14/58 分類(lèi) 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類(lèi)似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 車(chē)翰宣;陳昊;張震 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 上海傳芯半導(dǎo)體有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海光華專(zhuān)利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 羅泳文
地址 200120 上海市浦東新區(qū)中國(guó)（上海）自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)臨港新片區(qū)環(huán)湖西二路888號(hào)C樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種掩模基版的制作方法及具有等離子體加熱裝置的涂膠設(shè)備，制作方法包括步驟：提供透光基板；在透光基板上沉積遮光膜；在遮光膜上沉積防反射膜，防反射膜為Cr的堿性氧化物；對(duì)防反射膜進(jìn)行加熱烘烤，以脫去防反射膜的水分，并對(duì)防反射膜表面進(jìn)行氧等離子體處理，以在防反射膜表面形成氧化膜；于氧化膜上涂覆化學(xué)放大型光刻膠。本發(fā)明在防反射膜和化學(xué)放大型光刻膠界面形成了氧化膜，在曝光工藝處理時(shí)，可以有效避免由堿性防反射膜提供的電子和化學(xué)放大型光刻膠被光照激發(fā)產(chǎn)生的量子結(jié)合而發(fā)生的中和反應(yīng)，避免化學(xué)放大型光刻膠中腳狀圖形的產(chǎn)生，從而可以形成具有優(yōu)秀分辨率的掩模版圖案。