掩?；娴闹谱鞣椒熬哂械入x子體加熱裝置的涂膠設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110620806.0 申請日 -
公開（公告）號 CN113311660A 公開（公告）日 2021-08-27
申請公布號 CN113311660A 申請公布日 2021-08-27
分類號 G03F1/60;G03F1/80;G03F1/68;C23C14/00;C23C14/06;C23C14/35;C23C14/58 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 車翰宣;陳昊;張震 申請（專利權(quán)）人 上海傳芯半導體有限公司
代理機構(gòu) 上海光華專利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 羅泳文
地址 200120 上海市浦東新區(qū)中國（上海）自由貿(mào)易試驗區(qū)臨港新片區(qū)環(huán)湖西二路888號C樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種掩?；娴闹谱鞣椒熬哂械入x子體加熱裝置的涂膠設(shè)備，制作方法包括步驟：提供透光基板；在透光基板上沉積遮光膜；在遮光膜上沉積防反射膜，防反射膜為Cr的堿性氧化物；對防反射膜進行加熱烘烤，以脫去防反射膜的水分，并對防反射膜表面進行氧等離子體處理，以在防反射膜表面形成氧化膜；于氧化膜上涂覆化學放大型光刻膠。本發(fā)明在防反射膜和化學放大型光刻膠界面形成了氧化膜，在曝光工藝處理時，可以有效避免由堿性防反射膜提供的電子和化學放大型光刻膠被光照激發(fā)產(chǎn)生的量子結(jié)合而發(fā)生的中和反應，避免化學放大型光刻膠中腳狀圖形的產(chǎn)生，從而可以形成具有優(yōu)秀分辨率的掩模版圖案。