一種基于真空蒸鍍法的鍍硒工藝、設(shè)備及其所得容器

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201610238937.1 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN105970156B 公開（公告）日 2018-12-18
申請(qǐng)公布號(hào) CN105970156B 申請(qǐng)公布日 2018-12-18
分類號(hào) C23C14/24;C23C14/06 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 金明江;應(yīng)仁龍 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 杭州諾麥科科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 杭州凱知專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 邵志
地址 310053 浙江省杭州市濱江區(qū)濱康路399號(hào)616
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提出一種基于真空蒸鍍法的鍍硒工藝，包括如下步驟：將硒靶材和擬鍍硒載體放入真空腔體內(nèi)；真空腔體抽真空至10?3Pa以上，對(duì)硒靶材進(jìn)行加熱，加熱保溫溫度為200?700℃，保溫20?100 s；停止加熱，待真空腔體內(nèi)溫度降至室溫后，充入惰性氣體使腔體內(nèi)氣壓恢復(fù)至大氣壓，將擬鍍硒載體取出。采用本發(fā)明工藝能夠在擬鍍硒載體表面形成鍍硒層，利用鍍硒層與鎵基液態(tài)合金表面氧化膜層的相斥性，有效避免鎵基液態(tài)合金表面的氧化膜層（主要為氧化鎵）與載體表面發(fā)生粘附，從而極大的改善鎵基室溫液態(tài)合金在各領(lǐng)域的使用環(huán)境和應(yīng)用效果；另外鍍層與載體的結(jié)合效果優(yōu)異，鍍層厚度可控。