發(fā)光二極管芯片的制備方法及發(fā)光二極管芯片
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201910228015.6 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN110010733A | 公開(kāi)(公告)日 | 2019-07-12 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN110010733A | 申請(qǐng)公布日 | 2019-07-12 |
分類(lèi)號(hào) | H01L33/14;H01L33/00;H01L33/26;H01L21/304 | 分類(lèi) | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 王思博;孟芳芳;簡(jiǎn)弘安;劉宇軒;陳順利;丁逸圣 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 | 大連德豪光電科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 廣州華進(jìn)聯(lián)合專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | 大連德豪光電科技有限公司 |
地址 | 116051 遼寧省大連市經(jīng)濟(jì)開(kāi)發(fā)區(qū)淮河?xùn)|路157號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N發(fā)光二極管芯片的制備方法及發(fā)光二極管芯片,通過(guò)所述發(fā)光二極管芯片的制備方法對(duì)所述電流擴(kuò)展層低溫氮?dú)馔嘶鸺案邷氐獨(dú)饪焖偻嘶饍纱瓮嘶?,?shí)現(xiàn)對(duì)所述電流擴(kuò)展層結(jié)構(gòu)的改善及與所述P型半導(dǎo)體層的歐姆接觸。所述電流擴(kuò)展層的優(yōu)化降低了所述電流擴(kuò)展層對(duì)光的散射及增加所述電流擴(kuò)展層內(nèi)載流子濃度,實(shí)現(xiàn)對(duì)所述電流擴(kuò)展層的透過(guò)率的提升及阻值的降低,從而實(shí)現(xiàn)對(duì)LED的亮度提升及電壓降低,最終提高LED效率。 |
