一種快速判別金屬薄膜粗糙度的方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110661647.9 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN113514011A 公開（公告）日 2021-10-19
申請(qǐng)公布號(hào) CN113514011A 申請(qǐng)公布日 2021-10-19
分類號(hào) G01B11/30（2006.01）I;C23C14/18（2006.01）I;C23C14/35（2006.01）I 分類 測(cè)量；測(cè)試;
發(fā)明人 湯惠淋;宋世金;朱劉 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 先導(dǎo)薄膜材料（廣東）有限公司
代理機(jī)構(gòu) 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 顏希文
地址 511517廣東省清遠(yuǎn)市高新區(qū)百嘉工業(yè)園27-9號(hào)A區(qū)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種快速判別金屬薄膜粗糙度的方法。所述快速判別方法包括如下步驟：（1）以金屬為靶材，玻璃為襯底，在惰性氣體下進(jìn)行直流磁控濺射，得到金屬薄膜；（2）測(cè)試步驟（1）得到的金屬薄膜反面的鏡像光澤度，識(shí)別粗糙度。本發(fā)明通過對(duì)金屬薄膜反面的鏡像光澤度的測(cè)試，不僅可以判斷金屬薄膜在直流磁控濺射沉積過程中的粗糙度，快速的篩選制備的產(chǎn)品是否合格；又可以通過判斷在特定直流磁控濺射參數(shù)下制備的產(chǎn)品的粗糙度，來進(jìn)一步來指導(dǎo)優(yōu)化直流磁控濺射的參數(shù)，使制備的金屬薄膜具有純度高、氧化度低以及粗糙度低的特點(diǎn)。且本發(fā)明所述方法有利于降低由于金屬薄膜表面和內(nèi)部粗糙度異常導(dǎo)致的產(chǎn)品不良的幾率，縮短金屬薄膜的質(zhì)檢時(shí)間。