一種用于半導(dǎo)體芯片擴(kuò)膜的制備方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110191989.9 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN112967999A | 公開(公告)日 | 2021-06-15 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN112967999A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-06-15 |
分類號(hào) | H01L21/78(2006.01)I;H01L21/683(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 阮文靜;黃寓洋 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 蘇州蘇納光電有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 南京利豐知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) | 代理人 | 王鋒 |
地址 | 215000江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)星湖街218號(hào)生物納米園A4樓109C單元 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明揭示了一種用于半導(dǎo)體芯片擴(kuò)膜的制備方法,包括:提供第一擴(kuò)膜環(huán)、第二擴(kuò)膜環(huán)和待擴(kuò)晶圓;取藍(lán)膜固定在所述第一擴(kuò)膜環(huán)上,繃緊后,并在繃好藍(lán)膜的中心區(qū)域掏空一個(gè)大于待擴(kuò)晶圓的圓環(huán);在第二擴(kuò)膜環(huán)上固定有放置待擴(kuò)晶圓的第二藍(lán)膜,并對(duì)待擴(kuò)晶圓進(jìn)行切割,切割好芯片后,沿第二擴(kuò)膜環(huán)內(nèi)四周切去多余的第二藍(lán)膜,并去除第二擴(kuò)膜環(huán);將去除第二擴(kuò)膜環(huán)的芯片放在底部,同時(shí),將掏好圓環(huán)的第一擴(kuò)膜環(huán)蓋在上面,使第一擴(kuò)膜環(huán)的中心與芯片中心重合,并將重疊的藍(lán)膜和第二藍(lán)膜進(jìn)行粘結(jié),獲得半成品;將半成品放置于擴(kuò)膜機(jī)上擴(kuò)膜,得到擴(kuò)膜好的半導(dǎo)體芯片。本發(fā)明提供的用于半導(dǎo)體芯片擴(kuò)膜的制備方法,能將尺寸小的鐵環(huán)擴(kuò)膜到尺寸大的擴(kuò)晶環(huán)。 |
