一種具有復(fù)合膜層的聲表面波裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202111087051.9 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN113794458A 公開(kāi)（公告）日 2021-12-14
申請(qǐng)公布號(hào) CN113794458A 申請(qǐng)公布日 2021-12-14
分類號(hào) H03H9/02（2006.01）I 分類 基本電子電路;
發(fā)明人 封瓊;王為標(biāo);許志斌;陸增天;李壯 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 無(wú)錫市好達(dá)電子股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 無(wú)錫華源專利商標(biāo)事務(wù)所（普通合伙） 代理人 過(guò)顧佳
地址 214124江蘇省無(wú)錫市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)高運(yùn)路115號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種具有復(fù)合膜層的聲表面波裝置，涉及聲表面波器件領(lǐng)域，該聲表面波裝置復(fù)合膜層和叉指電極，叉指電極形成于復(fù)合膜層上方，復(fù)合膜層中的任意一個(gè)界面處形成有圖案化結(jié)構(gòu)，圖案化結(jié)構(gòu)為凹槽陣列圖形，凹槽陣列圖形呈定周期或變周期分布。通過(guò)在復(fù)合膜層中的任意一個(gè)界面處采用刻蝕工藝進(jìn)行圖形化處理，形成凹槽結(jié)構(gòu)，可以有效散射高階雜波響應(yīng)，通過(guò)調(diào)節(jié)圖形的深度與徑向大小，可以減小甚至消除不同頻段的高階雜波，提高阻帶抑制能力。