一種低介電常數(shù)聚酰亞胺薄膜及制備方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202111543656.4 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN114349962A 公開（公告）日 2022-04-15
申請(qǐng)公布號(hào) CN114349962A 申請(qǐng)公布日 2022-04-15
分類號(hào) C08G73/10（2006.01）I;C08J5/18（2006.01）I;C08L79/08（2006.01）I;C08K3/36（2006.01）I;C08K3/22（2006.01）I;C08K3/34（2006.01）I;C08K7/18（2006.01）I;C08K9/04（2006.01）I 分類 有機(jī)高分子化合物；其制備或化學(xué)加工；以其為基料的組合物;
發(fā)明人 胡知之;朱建民;劉兆濱;宮聿澤;邰振輝;宋恩軍;富揚(yáng);趙洪斌;馬可;何明波;梁東 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 遼寧奧克華輝新材料有限公司
代理機(jī)構(gòu) 鞍山嘉訊科技專利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 徐喆
地址 111000遼寧省遼陽(yáng)市宏偉區(qū)東環(huán)路29號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種低介電常數(shù)聚酰亞胺薄膜及制備方法，該聚酰亞胺薄膜的結(jié)構(gòu)式：其中，n是不為零的整數(shù)。制備方法：1）將二胺單體溶解于非質(zhì)子極性溶劑中，并加入二酐單體，再加入納米粒子均勻，涂覆于光滑的玻璃板基體；最后進(jìn)行加熱保溫處理。優(yōu)點(diǎn)是：該聚酰亞胺薄膜具有良好的介電性能。