聚酰亞胺襯底柔性透明導(dǎo)電膜及其制備方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201010135926.3 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN101834015A | 公開(kāi)(公告)日 | 2010-09-15 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN101834015A | 申請(qǐng)公布日 | 2010-09-15 |
分類號(hào) | H01B5/14(2006.01)I;H01B13/00(2006.01)I;C08L79/08(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 胡知之;魯云華;邊繼明;王永飛;房慶旭;雷芃;張志強(qiáng);肖國(guó)勇;遲海軍;董巖;趙洪斌;李曉;王翠蘋 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 遼寧奧克華輝新材料有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 鞍山貝爾專利代理有限公司 | 代理人 | 喬麗艷 |
地址 | 114044 遼寧省鞍山市千山路189號(hào)科大科技園 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種聚酰亞胺襯底柔性透明導(dǎo)電膜及其制備方法。本發(fā)明以1,2,3,4-環(huán)丁烷四羧酸二酐和含氟苯醚型芳香族二胺化合物作為合成聚酰亞胺的單體,經(jīng)低溫溶液縮聚反應(yīng)和熱酰亞胺化處理得到無(wú)色透明的聚酰亞胺膜,然后將聚酰亞胺膜經(jīng)過(guò)清洗、刻蝕的表面處理,利用磁控濺射技術(shù)于室溫條件下在其表面沉積一層納米銦錫氧化物膜,從而得到聚酰亞胺襯底柔性透明導(dǎo)電膜。該導(dǎo)電膜除具有較高的使用溫度外,450nm處的光透過(guò)率在88~95%,表面電阻率在3.0×10-4Ω.cm左右。 |
