一種摻Ti的類金剛石涂層的制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201210423173.5 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN102925862B | 公開(公告)日 | 2014-04-30 |
申請公布號 | CN102925862B | 申請公布日 | 2014-04-30 |
分類號 | C23C14/22(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 馬勝利 | 申請(專利權(quán))人 | 西安浩元航空科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 西安恒泰知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 | 代理人 | 李鄭建 |
地址 | 710089 陜西省西安市閻良國家航空高技術(shù)產(chǎn)業(yè)基地藍天路5號獨立廠房D座西北戶 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種制備摻Ti的DLC涂層的方法,將預(yù)處理好的基體放入電弧與磁控濺射復(fù)合鍍膜設(shè)備的轉(zhuǎn)架桿上,以柱弧Ti靶作為Ti源,以平面C靶作為C的來源,平面C靶共三對,以均布的方式安置在爐體內(nèi)壁上,采用高純Ar作為主要離化氣體,保證有效的輝光放電過程;采用高純N2作為反應(yīng)氣體,使其離化并與Ti、C元素結(jié)合,在基體表面沉積形成摻Ti的DLC涂層。制備的該摻Ti的DLC涂層外觀呈黑色,表面光滑致密,涂層的硬度28GPa,膜基結(jié)合力達到60N,涂層厚度為2.5μm,當(dāng)摩擦副為Al2O3球時,涂層的干摩擦系數(shù)為0.2。表明摻Ti的DLC涂層具有良好的耐磨和減摩性能。 |
