一種砷化鎵研磨冷卻水循環(huán)使用設(shè)備及其使用方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010747294.X 申請日 -
公開（公告）號 CN114057315A 公開（公告）日 2022-02-18
申請公布號 CN114057315A 申請公布日 2022-02-18
分類號 C02F9/04（2006.01）I;C02F101/10（2006.01）N 分類 水、廢水、污水或污泥的處理;
發(fā)明人 彭璐;趙克家;郭曉東 申請（專利權(quán)）人 山東浪潮華光光電子股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 濟(jì)南金迪知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 趙龍群
地址 261061山東省濰坊市市轄區(qū)高新區(qū)金馬路9號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種砷化鎵研磨冷卻水循環(huán)使用設(shè)備及其使用方法，屬于半導(dǎo)體廢水處理技術(shù)領(lǐng)域。設(shè)備包括研磨設(shè)備、豎流式沉淀池、沉淀池A、沉淀池B、平流式沉淀池和過濾器，其中，研磨設(shè)備排水口連接至豎流式沉淀池，豎流式沉淀池通過絮凝劑添加器分別連接至沉淀池A和沉淀池B，沉淀池A和沉淀池B均連接至平流式沉淀池，平流式沉淀池通過水泵連接至過濾器，過濾器連接至研磨設(shè)備進(jìn)水口。本發(fā)明實(shí)現(xiàn)冷卻水的循環(huán)使用，有效降低總用水量，降低廢水總量的產(chǎn)生，提高冷卻水凈化效率，同時避免砷化鎵碎屑對研磨的速率、破片率產(chǎn)生不良影響。