一種低熱阻高響應(yīng)頻率大變形量電磁驅(qū)動MEMS變形鏡
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201721506656.6 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN208026996U | 公開(公告)日 | 2018-10-30 |
申請公布號 | CN208026996U | 申請公布日 | 2018-10-30 |
分類號 | G02B26/08 | 分類 | 光學(xué); |
發(fā)明人 | 孔慶峰;謝海忠;彭效冉 | 申請(專利權(quán))人 | 明德之星(北京)科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京華旭智信知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 明德之星(北京)科技有限公司 |
地址 | 100086 北京市海淀區(qū)中關(guān)村大街45號興發(fā)大廈45號1001-7 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型提供一種低熱阻高響應(yīng)頻率大變形量電磁驅(qū)動MEMS變形鏡,包括:硅結(jié)構(gòu)層;在硅結(jié)構(gòu)層上形成的多層線圈,每個線圈具有墊點(diǎn)和中心點(diǎn);覆蓋所述多層線圈的介電層;在硅結(jié)構(gòu)層的下表面的周邊區(qū)域中形成的Si襯底層;以及在所硅結(jié)構(gòu)層上封裝所述多層線圈的變形鏡面,其中所述變形鏡面包括:鏡面薄膜,以及在鏡面薄膜下表面的中心區(qū)域形成的連接凸點(diǎn);其中,所述多層線圈的各層之間通過墊點(diǎn)或中心點(diǎn)進(jìn)行接觸,使得從硅結(jié)構(gòu)層底起由下而上依次排序,所述多層線圈的奇數(shù)層與偶數(shù)層之間通過中心點(diǎn)接觸,偶數(shù)層與奇數(shù)層之間通過墊點(diǎn)接觸;在第一層線圈的墊點(diǎn)上以及最后一層線圈的墊點(diǎn)或者中心點(diǎn)上形成有與外部互聯(lián)的兩個焊點(diǎn)。 |
