一種高純鎵粒的制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110387746.2 申請日 -
公開（公告）號 CN113102763A 公開（公告）日 2021-07-13
申請公布號 CN113102763A 申請公布日 2021-07-13
分類號 B22F9/08（2006.01）I 分類 鑄造；粉末冶金;
發(fā)明人 李清宇;黃杰杰;何志達;朱劉 申請（專利權(quán)）人 清遠(yuǎn)先導(dǎo)材料有限公司
代理機構(gòu) 北京天盾知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 李瓊芳;肖小龍
地址 511500廣東省清遠(yuǎn)市高新區(qū)百嘉工業(yè)園27-9號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及高純金屬技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種高純鎵粒的制備方法。具體包括以下步驟：（1）提供制備高純鎵粒的裝置；（2）將高純鎵放入手套箱，置于加熱板上，使鎵熔化待用；（3）對制粒管抽真空，再充氮氣或惰性氣體，取下制粒管頂部盲板，然后將漏斗放置在制粒管頂部；（4）開啟循環(huán)冷卻系統(tǒng)，使液體冷卻劑充滿產(chǎn)品收集槽和制粒管；（5）在手套箱內(nèi)操作將鎵液倒入漏斗中，使鎵液滴入冷卻劑中，在沉降過程冷凝成粒；（6）制粒完成后，將產(chǎn)品收集槽中的鎵粒和冷卻劑分離，鎵粒放入手套箱過渡倉中抽真空、干燥，再進入主箱體中包裝，得高純鎵粒產(chǎn)品。采用本發(fā)明方法能夠制得氧含量低于1ppm，粒徑為1~10mm、大小均勻，滿足半導(dǎo)體摻雜要求的高純鎵粒。