一種裸眼3D顯示設(shè)備、視覺(jué)屏障及其制備方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201610861149.8 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN106468831B 公開(kāi)（公告）日 2019-11-15
申請(qǐng)公布號(hào) CN106468831B 申請(qǐng)公布日 2019-11-15
分類號(hào) G02B27/22;C23C14/08;C23C14/18 分類 光學(xué);
發(fā)明人 田廣彥 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 擎中科技（上海）有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京同達(dá)信恒知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 黃志華
地址 200233上海市徐匯區(qū)田林路200號(hào)A1棟702室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種裸眼3D顯示設(shè)備、視覺(jué)屏障及其制備方法，該方法包括：在基底的上表面沉積吸收材料，形成第一薄膜層；在所述第一薄膜層的上表面繼續(xù)沉積反射材料，形成第二薄膜層；在所述第二薄膜層的表面鋪設(shè)具有設(shè)定圖形的光刻膠；按照同一刻蝕工藝對(duì)所述第一薄膜層、所述第二薄膜層進(jìn)行刻蝕，形成疊置的反射層和吸收層；其中，所述第一薄膜層和所述第二薄膜層的刻蝕速率相近。按照同一刻蝕工藝對(duì)第一薄膜層、第二薄膜層進(jìn)行刻蝕，進(jìn)而簡(jiǎn)化了視覺(jué)屏障的制備工藝。在同一刻蝕工序下進(jìn)行，得到的反射層和吸收層的圖形一致，可以避免因吸收層線寬大于反射層線寬導(dǎo)致顯示設(shè)備背光利用效率較低的問(wèn)題。