卡盤、相移式干涉儀及晶圓形貌干涉測量方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202210192266.5 申請日 -
公開（公告）號 CN114608475A 公開（公告）日 2022-06-10
申請公布號 CN114608475A 申請公布日 2022-06-10
分類號 G01B11/24（2006.01）I;G01B9/02（2022.01）I;B25B11/00（2006.01）I 分類 測量；測試;
發(fā)明人 唐壽鴻;曾安;陳建強(qiáng);朱充 申請（專利權(quán)）人 南京中安半導(dǎo)體設(shè)備有限責(zé)任公司
代理機(jī)構(gòu) 北京布瑞知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 -
地址 210000江蘇省南京市自由貿(mào)易試驗區(qū)南京片區(qū)研創(chuàng)園團(tuán)結(jié)路99號孵鷹大廈1836室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請公開了一種卡盤、相移式干涉儀及晶圓形貌干涉測量方法；其中，卡盤包括：阻尼塊；支撐柱，支撐柱具有支撐端，以將晶圓承托在阻尼塊的頂部；支撐端與阻尼塊之間的距離能夠保證晶圓下表面與尼塊上表面之間的空氣層厚度小于3mm。本申請?zhí)峁┑目ūP，設(shè)置有阻尼塊和支撐柱，將晶圓放置在支撐端上，創(chuàng)新性的管控阻尼塊上表面與晶圓下表面之間的空氣層厚度，進(jìn)而來管控晶圓振動的阻尼，進(jìn)而有效降低了晶圓的振動，這樣使得測量設(shè)備在充滿噪音和地面震動等不安靜的工業(yè)生產(chǎn)環(huán)境中也可完成晶圓形貌的納米精度測量。