成像平面空間的校正方法及其校正裝置以及晶圓測量裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110839395.4 申請日 -
公開（公告）號 CN113516645A 公開（公告）日 2021-10-19
申請公布號 CN113516645A 申請公布日 2021-10-19
分類號 G06T7/00（2017.01）I;G06T5/00（2006.01）I;G06T7/62（2017.01）I;G06T7/70（2017.01）I 分類 計算；推算；計數(shù);
發(fā)明人 唐壽鴻;曾安;陳建強 申請（專利權）人 南京中安半導體設備有限責任公司
代理機構 北京布瑞知識產(chǎn)權代理有限公司 代理人 秦衛(wèi)中
地址 210000江蘇省南京市自由貿易試驗區(qū)南京片區(qū)研創(chuàng)園團結路99號孵鷹大廈1836室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請實施例提供了一種成像平面空間的校正方法及其校正裝置以及晶圓測量裝置。該成像平面空間的校正方法包括獲取N個開孔的幾何中心對應的N個標準坐標，其中，N為正整數(shù)，N>1；利用干涉儀獲取卡盤的頂部表面對應的圖像；根據(jù)圖像確定N個開孔的幾何中心對應的N個測量坐標；根據(jù)N個標準坐標和N個測量坐標確定校正坐標；根據(jù)校正坐標校正圖像以得到校正后的圖像。本申請實施例基于卡盤的頂部表面上的N個開孔的幾何中心對應的N個標準坐標，結合利用干涉儀獲取的N個開孔的幾何中心對應的N個測量坐標確定校正坐標，從而利用校正坐標對晶圓測量裝置的成像平面空間進行校正，進而減小干涉儀所拍攝的圖像中存在的畸變，減小了測量結果誤差。