晶圓厚度的測(cè)量方法及其測(cè)量裝置
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110611032.5 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN113503822A | 公開(公告)日 | 2021-10-15 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN113503822A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-10-15 |
分類號(hào) | G01B11/06(2006.01)I;G01B9/02(2006.01)I | 分類 | 測(cè)量;測(cè)試; |
發(fā)明人 | 唐壽鴻;曾安;陳建強(qiáng) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 南京中安半導(dǎo)體設(shè)備有限責(zé)任公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京布瑞知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 秦衛(wèi)中 |
地址 | 210000江蘇省南京市自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)南京片區(qū)研創(chuàng)園團(tuán)結(jié)路99號(hào)孵鷹大廈1836室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N晶圓厚度的測(cè)量方法及其測(cè)量裝置。該晶圓厚度的測(cè)量方法包括:利用干涉儀獲取晶圓的第一表面的形貌圖,以根據(jù)形貌圖獲取晶圓的損失體積Ve,其中,晶圓的損失體積Ve為晶圓相對(duì)于晶圓對(duì)應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)晶圓所失去的體積;針對(duì)位于卡盤上方的晶圓利用干涉儀獲取晶圓和卡盤對(duì)應(yīng)的干涉強(qiáng)度圖或干涉條紋圖,以根據(jù)干涉強(qiáng)度圖或干涉條紋圖獲取晶圓的表面面積A0并根據(jù)Ve和A0結(jié)合晶圓的體積V獲取晶圓的厚度T0,其中,晶圓的表面面積A0小于卡盤的表面面積A卡盤。本申請(qǐng)實(shí)施例中,在測(cè)量晶圓的厚度T0的過程中,由于充分考慮到晶圓的損失體積Ve,從而使得晶圓的厚度更加精準(zhǔn),進(jìn)而減少了晶圓厚度的誤差。 |
