哈特曼測量裝置及其測量方法和晶圓幾何參數(shù)測量裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202210118747.1 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114543695A | 公開(公告)日 | 2022-05-27 |
申請公布號 | CN114543695A | 申請公布日 | 2022-05-27 |
分類號 | G01B11/16(2006.01)I;G01B11/24(2006.01)I | 分類 | 測量;測試; |
發(fā)明人 | 陳建強(qiáng);曾安;唐壽鴻 | 申請(專利權(quán))人 | 南京中安半導(dǎo)體設(shè)備有限責(zé)任公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京布瑞知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | - |
地址 | 210000江蘇省南京市自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)南京片區(qū)研創(chuàng)園團(tuán)結(jié)路99號孵鷹大廈1836室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本申請?zhí)峁┝艘环N哈特曼測量裝置及其測量方法和晶圓幾何參數(shù)測量裝置。該哈特曼測量裝置包括光源準(zhǔn)直部件和哈特曼波前傳感器。光源準(zhǔn)直部件用于將光源產(chǎn)生的光束準(zhǔn)直以形成平行光束,并將平行光束直接或間接射向晶圓的待測表面;哈特曼波前傳感器用于接收從晶圓的待測表面反射后的檢測光束,并將檢測光束轉(zhuǎn)換成多個光點(diǎn),以根據(jù)多個光點(diǎn)和多個光點(diǎn)對應(yīng)的正入射光點(diǎn)之間的偏移量計算得到待測表面的翹曲度和形狀。本申請的技術(shù)方案能夠降低測量裝置的結(jié)構(gòu)復(fù)雜性和成本,且保證測量過程中不損傷晶圓的待測表面。 |
