一種研磨機(jī)構(gòu)及研磨裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201911055608.3 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN110640633B | 公開（公告）日 | 2022-03-08 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN110640633B | 申請(qǐng)公布日 | 2022-03-08 |
| 分類號(hào) | B24B55/06（2006.01）I | 分類 | 磨削；拋光; |
| 發(fā)明人 | 楊美高 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 深圳市八零聯(lián)合裝備有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京品源專利代理有限公司 | 代理人 | 胡彬 |
| 地址 | 518000廣東省深圳市寶安區(qū)福海街道新和社區(qū)蠔業(yè)路39號(hào)旭竟昌工業(yè)園B1棟B1棟1層、2層 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種研磨機(jī)構(gòu)及研磨裝置，該研磨機(jī)構(gòu)包括吸附組件和研磨盤。吸附組件限定出真空腔體，吸附組件的一側(cè)與真空氣源密封相連；吸附組件的另一側(cè)設(shè)有緩沖件，緩沖件上設(shè)有與真空腔體連通的第一氣孔。研磨盤的一側(cè)設(shè)有研磨面，研磨盤的另一側(cè)與緩沖件配合設(shè)置。由于研磨機(jī)構(gòu)包括真空吸附機(jī)構(gòu)，使用真空吸附機(jī)構(gòu)吸附研磨盤能夠避免研磨機(jī)構(gòu)內(nèi)部的粉塵積累，從而提高研磨過程中的研磨精度和研磨效率。真空吸附機(jī)構(gòu)的吸附組件上設(shè)有緩沖件，使得研磨機(jī)構(gòu)的研磨盤僅包括研磨層，能夠降低研磨盤的生產(chǎn)成本，從而降低研磨機(jī)構(gòu)的使用成本。 |
