多層涂層系統(tǒng)及其制備方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202111262178.X 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN113981369A 公開（公告）日 2022-01-28
申請(qǐng)公布號(hào) CN113981369A 申請(qǐng)公布日 2022-01-28
分類號(hào) C23C14/06（2006.01）I;C23C14/32（2006.01）I;C23C14/35（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 邱聯(lián)昌;譚卓鵬;殷磊;楊倫旺;李世祺;廖星文 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 贛州澳克泰工具技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 廣州睿金澤專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 董湘
地址 341000江西省贛州市經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)工業(yè)三路
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了沉積在基體表面上的多層涂層系統(tǒng)及其制備方法，包括交替沉積的第一納米層和第二納米層；所述第一納米層包含鋁鉻硼氮化物，所述第二納米層包含具有（001）晶面擇優(yōu)取向生長(zhǎng)的六方結(jié)構(gòu)的二硼化鈦；所述（001）晶面的織構(gòu)系數(shù)TC≥2.0，所述第一納米層具有硼含量較高區(qū)域和硼含量較低區(qū)域，所述硼含量較高區(qū)域臨近所述第二納米層。本發(fā)明的目的在于提供一種多層涂層系統(tǒng)，以減小鈦合金、鎳基高溫合金等材料加工時(shí)的粘結(jié)磨損和氧化磨損。