一種投影高光譜系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201810336380.4 申請日 -
公開（公告）號 CN108519152A 公開（公告）日 2018-09-11
申請公布號 CN108519152A 申請公布日 2018-09-11
分類號 G01J3/02;G01N21/01 分類 測量；測試;
發(fā)明人 張立福;張紅明;張霞;岑奕;孫雪劍 申請（專利權）人 中科譜光科技（北京）有限公司
代理機構 北京路浩知識產權代理有限公司 代理人 中科譜光科技（北京）有限公司
地址 100101 北京市海淀區(qū)中關村大街18號8層03-174
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明實施例提供一種投影高光譜系統(tǒng)，包括光源單元、光調制單元、分光單元和投影物鏡單元；所述光源單元用于向所述光調制單元發(fā)射寬譜光束；所述光調制單元用于依次選擇所述寬譜光束中的寬譜線光束并將所述寬譜線光束傳遞至所述投影物鏡單元；所述投影物鏡單元用于接收所述寬譜線光束并照射至樣品，收集樣品反射光；所述分光單元用于接收所述反射光進行色散處理，并檢測色散處理后的二維光信號。基于投影技術和光譜分光技術相結合獲取垂直安放的壁畫等樣品的高光譜信息，既可以提供樣品空間形態(tài)分布，又能夠提供成像視場內精確到像素點的樣品光譜信息，可以輔助進行顏料識別、分析、結果的可視化以及后處理，為壁畫等組分分析提供新的實驗平臺。