直寫曝光機(jī)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202120011233.7 申請日 -
公開（公告）號 CN213934539U 公開（公告）日 2021-08-10
申請公布號 CN213934539U 申請公布日 2021-08-10
分類號 G03F7/20（2006.01）I;G03F9/00（2006.01）I;H05K3/06（2006.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 蔡志國;江俊龍 申請（專利權(quán)）人 蘇州微影激光技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 蘇州威世朋知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 郭紅巖
地址 215011江蘇省蘇州市高新區(qū)火炬路85號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型提供了一種直寫曝光機(jī)，直寫曝光機(jī)包括多個(gè)打標(biāo)裝置、承載機(jī)臺、設(shè)于承載機(jī)臺上方的曝光裝置和位置獲取裝置、以及遮光條，承載機(jī)臺的上表面包括承載面以及位于承載面外且相鄰的兩個(gè)邊緣，相鄰兩個(gè)邊緣分別開設(shè)有第一凹槽和第二凹槽，遮光條包括嵌裝于第一凹槽的第一段和嵌裝于第二凹槽的第二段，遮光條開設(shè)有與多個(gè)打標(biāo)裝置一一對應(yīng)的多個(gè)透光孔，其中部分透光孔設(shè)于第一段并沿第一方向間隔排布，其余透光孔設(shè)于第二段并沿垂直于第一方向的第二方向間隔排布，多個(gè)打標(biāo)裝置設(shè)于遮光條的下方，且每個(gè)打標(biāo)裝置的出光口至少部分暴露于其所對應(yīng)的透光孔中，可以降低組裝誤差、機(jī)臺熱脹冷縮對打標(biāo)標(biāo)記的影響。