一種用于半導體蝕刻反應腔室的全自動刷鍍鎳的電鍍刷

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202021668441.6 申請日 -
公開（公告）號 CN212834079U 公開（公告）日 2021-03-30
申請公布號 CN212834079U 申請公布日 2021-03-30
分類號 C25D5/06(2006.01)I;C25D21/12(2006.01)I 分類 電解或電泳工藝；其所用設備〔4〕;
發(fā)明人 黎糾 申請（專利權(quán)）人 帝京半導體科技（蘇州）有限公司
代理機構(gòu) 杭州知杭知識產(chǎn)權(quán)代理事務所（普通合伙） 代理人 夏艷
地址 215000江蘇省蘇州市高新區(qū)竹園路209號4號樓8樓803-2
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種用于半導體蝕刻反應腔室的全自動刷鍍鎳的電鍍刷，包括燕尾連接件，儲液盒，金屬固定板和金屬絲；燕尾連接件由連接部和移動部組成，連接部為燕尾凸臺，移動部為中空的長方體結(jié)構(gòu)，移動部內(nèi)置有儲液盒，移動部與金屬固定板固定連接。本實用新型的優(yōu)點在于電鍍刷設置有金屬絲，金屬絲能夠完全貼合被鍍工件的彎曲表面，保證刷鍍時鍍層均勻；第一紅外傳感器和第二紅外傳感器位于金屬板的斜對角處，通過紅外測距從而檢測金屬固定板與被鍍件的距離和角度狀態(tài)，提高電鍍刷的電鍍精確度。??