脫低分子設(shè)備及硅油制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201811520700.8 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN109603682A | 公開(公告)日 | 2019-04-12 |
申請公布號 | CN109603682A | 申請公布日 | 2019-04-12 |
分類號 | B01J3/00;B01J3/02;B01J19/00;B01J19/24;B01D1/00;B01D1/30;C08G77/34 | 分類 | 一般的物理或化學(xué)的方法或裝置; |
發(fā)明人 | 馮欽邦;諶紹林;王躍林;蔡家亮;吳利民 | 申請(專利權(quán))人 | 宜昌科林硅材料有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | 廣州道林合成材料有限公司;宜昌科林硅材料有限公司 |
地址 | 510000 廣東省廣州市高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)南翔三路15號實(shí)驗(yàn)樓5樓501室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種脫低分子設(shè)備及硅油制備方法,包括反應(yīng)釜、加熱裝置和冷凝裝置,所述反應(yīng)釜的側(cè)壁設(shè)有出氣口,所述出氣口與所述冷凝裝置連通,所述加熱裝置用于加熱所述出氣口的邊緣。本發(fā)明的脫低分子設(shè)備一方面將反應(yīng)釜的出氣口設(shè)置在側(cè)壁上,可防止從出氣口排出的蒸汽冷凝后因重力作用再次回流至反應(yīng)釜內(nèi)。另一方面通過利用加熱裝置來加熱反應(yīng)釜的出氣口的邊緣,從而在低分子脫除過程中可提高出氣口處的溫度,降低出氣口附近與反應(yīng)釜底部的溫差。如此,可顯著地減少出氣口處的冷凝回流現(xiàn)象,使得在較低溫度下脫低即可達(dá)到很好的脫低效果,使硅油特別是反應(yīng)性硅油的揮發(fā)分達(dá)到較低水平,提升了產(chǎn)品品質(zhì),同時也降低了升溫能耗。 |
