一種集成透鏡陣列的微鏡、微鏡制備方法及激光顯示系統(tǒng)
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201911256973.0 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113031256A | 公開(公告)日 | 2021-06-25 |
申請公布號 | CN113031256A | 申請公布日 | 2021-06-25 |
分類號 | G02B26/08;G02B3/00;G03F7/00;B82Y40/00;B82Y20/00;B81C1/00;B81B7/02;G02B27/48 | 分類 | 光學; |
發(fā)明人 | 馬宏 | 申請(專利權(quán))人 | 覺芯電子(無錫)有限公司 |
代理機構(gòu) | 廣州三環(huán)專利商標代理有限公司 | 代理人 | 郝傳鑫;賈允 |
地址 | 214000 江蘇省無錫市濱湖區(qū)菱湖大道200號中國傳感網(wǎng)國際創(chuàng)新園A802 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種集成透鏡陣列的微鏡,所述微鏡包括基材層、反射層和透鏡層,所述反射層設(shè)于所述基材層上方的特定區(qū)域內(nèi),所述透鏡層位于所述反射層的上方,且所述透鏡層為通過納米壓印或納米打印或光刻膠熱熔工藝制成;所述透鏡層為微透鏡陣列或菲涅爾透鏡陣列。本發(fā)明透鏡陣列層由納米壓印技術(shù)或納米打印技術(shù)制造,其單元透鏡的口徑與精度高,散斑抑制效果好,同時,通過設(shè)計合理的微納結(jié)構(gòu)以及改進加工方式,降低光能損失,有利于進行激光顯示。 |
